产品简介（Introduction）
氟化铽（TbFₓ）是一类重要的稀土氟化物材料，常见形式为 TbF₃。该材料具有优异的化学稳定性、较低的声子能量、良好的光学透明性以及突出的稀土发光特性，在光学功能薄膜、磁光材料、发光材料及先进光电器件中具有重要应用价值。
作为溅射靶材，氟化铽可在磁控溅射过程中稳定沉积高均匀性、低缺陷的功能薄膜，特别适用于对光学纯净度和化学稳定性要求较高的应用场景。
产品详情（Detailed Description）
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制规格的氟化铽溅射靶材，满足科研与产业化薄膜制备需求。
● 可提供规格
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
常见化学组成：TbF₃（可按需提供其他价态氟化物）
尺寸范围：Φ25–300 mm
厚度：3–6 mm（支持定制）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶
制造工艺：真空烧结、热压（HP）、CIP/HIP
致密度：≥95% 理论密度
背板结合：Cu / Ti 背板，支持铟焊（Indium Bonding）
● 材料特性
高化学稳定性，耐酸碱、耐腐蚀
低声子能量，利于稀土发光跃迁
良好的紫外–可见–近红外透过性能
稀土磁光与光致发光特性明显
薄膜结构致密、均匀性高
应用领域（Applications）
氟化铽（TbF）溅射靶材广泛应用于以下高端领域：
1. 光学与激光薄膜（Optical & Laser Coatings）
用于稀土掺杂光学膜、功能光学层及激光相关薄膜结构。
2. 发光与荧光材料（Luminescent Materials）
Tb³⁺ 具有典型绿色发光特性，适用于显示、照明与荧光薄膜研究。
3. 磁光薄膜（Magneto-Optical Films）
铽基材料常用于磁光效应相关器件与研究。
4. 红外与光电器件
作为功能层或辅助层用于红外窗口、探测器与光电器件。
5. 稀土功能薄膜科研
用于稀土能级跃迁、发光机制与材料物性研究。
技术参数（Technical Parameters）
参数
范围 / 典型值
说明
纯度
3N–4N
纯度越高，光学损耗越低
化学组成
TbF₃
亦可定制其他 TbFₓ
直径
25–300 mm
适配主流溅射系统
厚度
3–6 mm
影响溅射稳定性
致密度
≥95% TD
提升薄膜致密性与均匀性
背板
Cu / Ti / 铟焊
改善散热与使用寿命
相关材料对比（Comparison with Related Materials）
材料
特点
典型应用
TbF₃
稀土发光、磁光特性
光学膜、发光薄膜
YbF₃
低声子能量
激光与红外薄膜
ErF₃
红外发光
光通信、激光器
MgF₂
高透过率、低折射率
光学减反膜
常见问题（FAQ）
问题
答案
TbF 靶材适合 RF 还是 DC 溅射？
通常推荐 RF 磁控溅射。
TbF 是否吸湿？
稀土氟化物吸湿性低，但建议真空密封保存。
能否提供 TbF₃ 以外的组成？
可以，支持定制 TbFₓ。
是否适合光学与发光薄膜？
是，TbF 是典型稀土光学功能材料。
是否可提供背板铟焊？
支持 Cu/Ti 背板与铟焊。
是否提供检测报告？
可按需提供 ICP、密度、尺寸等报告。
包装与交付（Packaging）
真空密封包装
干燥剂防潮保护
防震泡沫固定
出口级纸箱或木箱
每片靶材附唯一溯源码与质检记录
结论（Conclusion）
氟化铽靶材（TbF）凭借其优异的光学性能、稀土发光特性及高化学稳定性，在光学薄膜、磁光材料、发光器件和前沿材料研究中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、可定制的 TbF 溅射靶材，为科研与工业薄膜制备提供可靠材料支持。
如需报价或技术资料，请联系：📧 sales@keyuematerials.com